金兆益科技於2026 SEMICON Taiwan發布「掌握AMC：智慧廠務的現在與未來」議題，由資深業務經理暨AMC產品經理詹東憲分享先進製程微污染管理趨勢，並以新世代NFA-Quantum智慧AMC監測系統為核心，推動微污染管理從事後分析走向即時監測與主動預警。

　　傳統潔淨室HEPA／ULPA濾網主要攔截固態懸浮微粒，對氣相分子污染物（AMC）無法有效攔截。這些污染物可在潔淨室、EFEM、FOUP等微環境快速擴散，並吸附於矽或金屬表面，進入DUV、EUV微影與先進薄膜製程後，即使極微量污染，也可能造成光阻圖案異常、光學元件霧化，以及金屬互連與Pad腐蝕，進而影響製程穩定與良率。

　　金兆益此次提出全廠區常態監測、漏源輔助查找及特定區域目標偵查三大AMC應用架構，從廠區環境一路深入設備與製程端。

　　其中NFA-Quantum整合GC-MS＋IC，可針對MA、MB及VOCs進行多物種同步定性、定量與未知物解析，並結合AI自動化監測，未來AMC管理不只是「發現污染」，更要在晶圓大量異常前找出污染源，讓微污染數據成為智慧廠務守住先進製程良率的重要防線。